0.5um 40v/40v hvcmos技術是fmic自主開發的非外延高壓cmos通用工藝平臺。與同領域典型的1.0um 40v hvcmos工藝平臺相比，生產週期和成本相近的情況下，集成度可明顯提升；與同行業類似的0.5um hvcmos平臺相比，生產週期和生產成本均可減少約20%該平臺產品可以廣泛的應用於電源管理、led驅動等消費電子領域。
1) 工藝特性
ø 常規5v 低壓mos相容行業標準
ø 19層光罩，19個光刻層（其中包含3個可選層），採用非外延工藝
ø 四阱工藝：深隔離n阱，高壓n阱，n阱，p阱
ø 採用局部氧化和pn結隔離
ø 雙柵氧，125a和1000a
ø sog平坦化，鎢塞工藝
ø 工作電壓： vgs&vds 5-40v
2) 典型應用
ø ac/dc 轉換電路
ø dc/dc 轉換電路
ø 驅動電路
ø 高壓模數混合電路