2006年6月，我以普通光刻工艺工程师的职务加入方正微电子，当时候的我除了电脑和书，几乎一无所有，两年工作攒下的所有积蓄只够还清大学四年期间的借贷。
2006年夏天，公司还在板房办公和食宿，新建的厂房和宿舍正处于后期装修，楼外是堆积得很高的黄泥，那年的雨水很多，我们经常提着拖鞋、捞起裤腿上班；深夜的我很担心台风会把我们所住的板房刮走，更恼火的是风声太大、而且蚊子很多，影响了我睡觉前思考问题。
厂房竣工、动力开启、fab环境达标、设备移入和配管之后，进入设备调试和工艺搭建阶段，对于从那个年代走过来的方正微电子人来说，印象最深刻的事情莫过于制备“方正第一芯”样片。
“方正第一芯”样片的制备，主要经历制版、薄膜、光刻、腐蚀几个工艺环节，其中光刻工艺最繁琐，因为光刻工艺要经历涂胶、曝光、显影好几个工艺步骤，在当时候那种动力设施和设备刚刚开始运转、故障频出的状况下，每多一个工艺步骤就表示多一份不确定因素。为了按时完成目标，我们必须在现有的条件下仍然尽可能保证整个实验线的完整性，否则都有可能因为某一个环节的搁浅而导致整个目标无法完成；为了争分夺秒，我们做了很多非常规的事情，比如我们从邻近的村子里买了两个塑料桶，拿到宿舍里里外外洗三遍，然后再拿到fab洗三遍，临时充当显影槽，我经常左手提着装有显影液的“显影槽”，右手拿着装有晶圆（wafer）的片架（cassette）在“显影槽”里做显影动作，一边提着、一边急急忙忙从光刻区送到刻蚀区去做下一步的腐蚀，全然不顾显影液溅到裤腿上的危害（作者按：显影液是浓度为2.38%的四甲基氢氧化铵溶液，对皮肤有腐蚀性，请读者注意安全）。
经过多次努力，终于在2006年中秋自助餐的时候，我们拿出了第一片样品，公司上下一片沸腾，那顿饭吃得特别香；然后，开始制备正式的样片，当时候光刻机很不稳定，曝光的时候经常走走停停，为了赶制最后一批样片，正逢是半夜，我必须盯着光刻机，由于连续熬夜、担心自己会在fab里睡着了，我是每次在fab里盯5分钟，然后又跑到公司广场散步15分钟，如此往返，终于完成最后一批样片。10月中旬，公司举办“投产庆典”，镶嵌在水晶里的“方正第一芯”样片展现在众人面前，非常亮眼，当时的我特别感动，就似乎看到自己的价值得到了展现；2006年底，我获得年度优秀员工“进取芯星奖”表彰。
2006年6月至2007年，我经历了公司发展历程上的设备移入、样片制备、设备调试与模块工艺搭建、产品通线与小批量生产等几件大事，公司逐步成长，我本人也随着公司的发展而逐步提升，我不再是孤傲、片面的我，无论是对于工作中所遇到的技术和管理问题、或是个人遇到的问题，我都有了更全面的思维和考量。出于个人职业规划，2007年底，我向公司申请从光刻部调职到产品开发处。