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0.5um 40v/40v hvcmos技术是fmic自主开发的非外延高压cmos通用工艺平台。与同领域典型的1.0um 40v hvcmos工艺平台相比，生产周期和成本相近的情况下，集成度可明显提升；与同行业类似的0.5um hvcmos平台相比，生产周期和生产成本均可减少约20%该平台产品可以广泛的应用于电源管理、led驱动等消费电子领域。

1)   工艺特性

ø   常规5v 低压mos兼容行业标准

ø   19层光罩，19个光刻层（其中包含3个可选层），采用非外延工艺

ø   四阱工艺： 深隔离n阱，高压n阱，n阱，p阱

ø   采用局部氧化和pn结隔离

ø   双栅氧，125a和1000a

ø   sog平坦化，钨塞工艺

ø   工作电压： vgs&vds 5-40v

2)       典型应用

ø    ac/dc 转换电路

ø    dc/dc 转换电路

ø    驱动电路

ø    高压模数混合电路